1、应用范围概述：
电解电容器生产、铝箔及工作件的清洗，电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液，显像管和阴极射线管生产配料用纯水，黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 ，液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液，晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等；医药纯化水，化妆品用水，电子工业高纯水，电镀件的清洗及配料，太阳能清洗，单晶硅片清洗，打印色浆的配料，蓄电池用水。
2、达到标准
纯化水标准，注射水标准，国家电子级纯水标准，美国SEMI标准，显像管、液晶显示器用纯水水质， 集成电路用纯水水质。
3、设备特点
为满足用户要求，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低作人员的维护工作量。在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，设计合理预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（或EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 |
